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产品描述
技术参数:
Rave 成立于1996,是专业从事开发和生产先进光罩修复(Advanced Mask Repair)及光罩雾化污染去除系统 ( Haze Removal)的设备供应商。目前,Rave在光罩领域的市场占有率已达到世界**,成为了这一行业的***和开拓者。
主要特点:
光罩雾化污染去除系统 Rhazer
◆雾化污染的去除率高:100% (只去除污染物,无需去除表面薄膜),无相位角损失;
◆光罩材料:Chrome, MoSi, Quartz; 尺寸:150mm x 150mm x 25mm;
◆高效:干法工艺,无需除去薄膜;
◆低CoO:极大地提高了Haze污染的管理效率和光罩使用周期,提升良率;
◆全自动化运行,占地面积小,无有害气体或液体,无需消耗去离子水、酸液等化学品。
先进光罩修复系统nm450
◆适用于各种类型的纳米级光罩的修复并有助于32nm光罩的研发;
◆独立的材料合成以及材料接触面控制(Chrome, MoSi, Quartz, EUV, Foreign Materials)。无需复杂的工艺气体、操作及应用十分方便、全自动运行模式、便利的操作界面控制;
◆极强的深度控制--(z)控制,3 nm (3Σ from Target) 适用于所有材料;
◆边缘的布置--5 nm (3Σ from Target),适用于所有材料;
◆重复修补及平面材料去除能力保证了非常宽的“through focus” 传送窗口;
◆在光罩修复领域nm450的市场占有率为全球**。